铟锡氧化物(ITO)靶材广泛应用于智能手机、平板显示器等触摸屏产品的传感器和显示器上,市场需求量巨大,但技术难点多,制备困难。生产中,该产品分低、中、高端薄膜。超高纯(密)度和大规格等高端靶材因其要求苛刻,我国尚未掌握规模化生产技术,均为少数发达国家垄断。成熟的低端靶材产业化是迈向高端的必经之路。
瞄准高端,但也要结合实际,必须从低端入手。七二五所人开始了行动。
然而,几年中累计投入自主研发经费5000余万元,但进度颇为曲折。其间,成果研究成功后便从研究室独立出来,进行中试。结果由于其难度太大,屡试不爽,不得已又返回研究室。
面对挫折,七二五所人选择了宽容。形势并没有根本变化,何况对比开始已经取得了不小的进步,他们继续坚持着。
终于,2011年10月相关成果再次从研究室独立出来,并成立纳米靶材中心。
前后历经8载研究,七二五所建成了10吨生产示范线,完成了中试产品生产和应用厂家的试用并初步获得主流靶材应用商认可,形成了一整套具有我国自主知识产权的靶材制备技术。已自主申请纳米粉末制备、湿法成型、靶材烧结等涵盖靶材制备主要技术的发明专利13项。随着首批靶材订单的生产,既实现了低端靶材生产工艺固化,又为后续中高端靶材研制奠定了基础。
功夫不负有心人。作为国家战略性支持项目,国家发改委、财政部、工信部技术研发和产业化项目“高世代TFT-LCD和PDP用ITO靶材技术研发及产业化项目”落户七二五所/双瑞集团。其产能分两期各50吨建设,一期投资为5000多万元,有力地推进了靶材技术研发及产业化进程。
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