CVD气氛管式炉

 应用领域：
CVD气氛管式炉广泛应用于高中低温CVD工艺，例如：碳纳米管的研制、纳米氧化锌的可控生长、晶体硅基板镀膜、金属或非金属在真空或气氛条件下的焊接、烧结等工艺。

 主要特点：
* 高纯石英管或刚玉管作为内炉膛，可拆卸式的三面密封法兰，具有优良的洁净度和真空度。
* 全部采用超轻质的陶瓷纤维制品耐火保温，整机结构小、能耗低、升温快。
* 加热元件采用进口Kanthal电阻丝或U型硅钼（碳）棒，寿命长。
* 温控系统采用进口多段智能程序温度控制仪控制，具有良好的稳定性和一致性。

 技术参数：
设备型号： GCVD(D)-06/30/1 GCVD(Z)-07/40/1 GCVD(G)-09/50/1 GCVD(G)-06/50/2
*高温度： 1050℃ 1300℃ 1650℃ 1650℃
使用温度： RT～1000℃ RT～1250℃ RT～1600℃ RT～1600℃
控制精度： ±1℃ ±1℃ ±1.5℃ ±1.5℃
温区个数： 1个 1个 1个 2个
炉管材质： 高纯石英 99刚玉 99刚玉 99刚玉
发热元件： Kanthal电阻丝 进口电阻丝/硅碳棒 硅钼棒 电阻丝、硅钼棒
加热区长度： 300mm 400mm 500mm 500mm
炉管尺寸： Ф60×1000 Ф70×1100 Ф90×1300 Ф60×1450
加热功率： 3Kw 4Kw 10Kw 8Kw

注：以上真空气氛管式炉具备冷态极限真空6.67×10-3Pa，并可根据实际要求非标定制。