气相沉积炉,沉积炉,CVD,CVI炉,顶立科技

立式化学气相沉积炉（沉积炭）可用于以碳氢气体（如C3H8等）为碳源的材料表面或基体等温CVD/CVI处理。

技术特征
根据炉膛尺寸与结构设置温区，温度均匀性好；
采用特殊结构沉积室，密封效果好，抗污染能力强；
采用多通道沉积气路，流场均匀，无沉积死角，沉积效果好；
对炭沉积过程中产生的焦油、固体粉尘、有机气体等能进行有效的处理。

主要配置
炉门：丝杠升降/液压升降/手动升降；手动锁紧/自动锁圈锁紧
炉壳：全碳钢/内层不锈钢/全不锈钢
炉胆：软碳毡/软石墨毡/硬质复合毡/CFC
加热器、马弗：等静压石墨/模压三高石墨/细颗粒石墨
工艺气路系统：体积/质量流量计；手动阀/自动阀；进口/国产
真空泵和真空计：进口/国产
人机界面：模拟屏/触摸屏/工控机
PLC：欧姆龙/西门子
控温仪表：日本岛电/英国欧陆
热电偶：C分度号/S分度号/K分度号/N分度号
记录仪：无纸记录仪/有纸记录仪；进口/国产
电器元件：正泰/施耐德/西门子